色譜級正庚烷生產廠家彪仕奇收集發現對于許多有機反應而言，氧的存在比微量水的存在的危害性更大。如果一個反應沒有按預想結果發生，那么應該確認一下體系中的氧是否已經除凈，包括溶劑中溶解的氧氣。對于某些特定的反應而言，溶劑除氧是非常必要的:
1. 超過120度的反應或者在80度以上長時間加熱的反應。這些反應通常在密封管中進行，并且通常加熱溫度在溶劑的沸點以上，尤其是對于分子內的反應而言，如果反應期間顏色變黃或者變棕通常認為是由于氧的存在。高溫的反應對氧十分敏感，甚至于在打開反應對樣品進行TLC取樣時帶入的氧氣也有可能破壞反應。
2. 有機金屬反應。對于許多有機金屬反應而言，需要提供一個無氧的環境(有時需要無氮的環境)。對于使用某些敏感的催化劑而言，進行10次凍干-抽泵-解凍的循環并不少見。
彪仕奇色譜級正庚烷具有低UV背景吸收、優異的HPLC梯度洗脫基線、低固體顆粒及揮發殘留、低含水量、優異的批次穩定性。有效的避免了鬼峰及錯誤結論、減少了色譜柱的污染及系統堵塞、避免了正相色譜柱的失活、更換批次時無需更改HPLC標準方法、高通量生產中降低了次品率。
3. 自由基反應以及光化學反應：自由基物種往往能夠與氧氣發生反應，顯而易見必須除氧。
4. 底物中含有硫醇、硫醚、磷化氫、富含電子的芳香族化合物等。加熱溶劑通常會導致這類底物發生氧化反應，盡管在通常情況下這類化合物是穩定的。
色譜級正庚烷生產廠家彪仕奇致力于為客戶提供一流的產品和技術服務，推進企業的循環的發展。
